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Price 35000 आईएनआर/ टुकड़ा

मूल्य/उद्धरण प्राप्त करें

MOQ : 1 , , टुकड़ा

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मेल्टिंग पॉइंट
Depends on material; ultrahigh purity typically > 1000°C

क्वथनांक
Depends on material; generally > 2000°C

ग्रेड
High Purity

कण का आकार
Sub-micron to micron-sized, customizable as per requirement

शुद्धता (%)
99.99%

उपयोग/अनुप्रयोग
Thin film deposition, semiconductor industry, magnetic data storage, optical coatings, solar cells

धातु का प्रकार
Transition, precious, or specialty metals, as specified

प्रॉडक्ट टाइप
धातु उत्पाद

मटेरियल
अन्य

शेप
गोल

रासायनिक संरचना
99.99% शुद्ध

घनत्व
ग्राम प्रति घन सेंटीमीटर (g/cm3)

साइज
कोई भी व्यास

वज़न
Custom depending on target size and thickness

आयाम (एल* डब्ल्यू* एच)
Custom, available as per customer specifications

रंग
Metallic silver-grey

Minimum Order Quantity
1 , , टुकड़ा

आपूर्ति की क्षमता
20 प्रति महीने

डिलीवरी का समय
15-25 दिन

मुख्य निर्यात बाजार
पूर्वी यूरोप, मिडल ईस्ट, एशिया

मुख्य घरेलू बाज़ार
ऑल इंडिया

About à¤¸à¥à¤ªà¤à¤°à¤¿à¤à¤ à¤à¤¾à¤°à¤à¥à¤

विशेषताएं:

हम समरूप, महीन दाने वाले, उच्च-उत्पादन के लिए विभिन्न प्रकार की विशेष प्रसंस्करण तकनीकों का उपयोग करते हैं जैसे गर्म दबाव, गर्म आइसोस्टैटिक दबाव (एचआईपी), और ठंडा आइसोस्टैटिक दबाव (सीआईपी), इंडक्शन वैक्यूम मेल्टिंग और वैक्यूम कास्टिंग। घनत्व सामग्री जो सख्त अनुप्रयोग मानकों के अनुरूप है
बहुमूल्य सहित स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री की एक पूरी श्रृंखला प्रदान करता है धातु, शुद्ध धातु, मिश्र धातु, चीनी मिट्टी की चीज़ें, सेरमेट, बोराइड, ऑक्साइड, कार्बाइड, नाइट्राइड, सिलिकेट और फ्लोराइड
शुद्धता वाणिज्यिक-ग्रेड (99.5%) से लेकर अल्ट्रा-हाई (99.9999%) तक होती है
स्पटरिंग प्रक्रिया में उपयोग की जाने वाली बैकिंग प्लेटें आपके उत्पाद के लिए गुणवत्ता वाली पतली फिल्म जमाव बनाने के लिए आवश्यक हैं। हम आपकी विशिष्ट आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए मानक कॉन्फ़िगरेशन और कस्टम आयाम दोनों में बैकप्लेट्स की पेशकश करते हैं। हम पूर्ण भी प्रदान करते हैं संपूर्ण समाधान प्रदान करने के लिए बॉन्डिंग सेवाएँ

1. शुद्ध धातु स्पटरिंग लक्ष्य

Al, Sb, Bi, B, CD, C, Ce, Cr, Co, Cu, Dy, Er, Eu, Gd, Ge, Au, C, Hf, Ho, In, Ir , फे, ला, लू, एमजी, एमएन, मो, एनडी, नी, एनबी, पीडी, पीटी, पीआर, रे, आरयू, एसएम, से, एससी, एजी, एसआई, टा, टीबी, टीएम, एसएन, टीआई, डब्ल्यू , वी, वाईबी, वाई, जेडआर, जेडएन, ला, सीई, पीआर, एनडी, एसएम, ईयू, जीडी, टीबी, डाई, हो, एर, टीएम, वाईबी, लू, एससी,वाई

2. अलॉय स्पटरिंग लक्ष्य

AlCu, AlCr, AlMg, AlSi, AlSiCu, AlAg, AlV, CaNiCrFe, CaNiCrFeMoMn, CeGd, CeSm, CrSi, CoCr, CoCrMo, CoFe, CoFeB, CoNi, CoNiCr, CoPt, CoNbZr, CoTaZr , CoZr, CrV, CrB, CrSi, CrCu, CuCo, CuGa, CuIn, CuNi, CoNiPt, CuZr, DyFe, DyFeCo, FeB, FeC, FeMn, GdFe, GdFeCo, HfFe, IrMn, IrRe, InSn, MoSi, NiAl, NiCr , NiCrSi, NdDyFeCo, NiFe, NiMn, NiNbTi, NiTi, NiV, smCo, AgCu, AgSn, TaAl, TbDyFe, TbFe, TbFeCo, TbGdFeCo, TiAl, TiNi, TiCr, WRe, WTi, WCu, ZrAl, ZrCu, ZrFe, ZrNb , ZrNi, ZrTi, ZrY, ZnAl, ZnMg

3. ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य या सिरेमिक लक्ष्य

Al2O3, Sb2O3, ATO, BaTiO3, Bi2O3, CeO2, CuO, Cr2O3, Dy2O3, Er2O3, Eu2O3, Gd2O3, Ga2O3, GeO2, HfO2, Ho2O3, In2O3, ITO, Fe2O3, Fe3O4, La2O3 , PbTiO3, PbZrO3, LiNbO3, Lu3Fe5O12, Lu2O3, MgO, MoO3, Nd2O3, Pr6O11, Pr,(TiO2) 2, Pr2O3, sm2O3, Sc2O3, SiO2, SiO, SrTiO3, SrZrO3, Ta2O5, Tb4O7, TeO2, ThO2, T m2O3, TiO2, TiO, Ti3O5, Ti2O3, SnO2, SnO, WO3, V2O5, YAG, Y3Al5O12, Yb2O3, Y2O3, ZnO, ZnO: Al, ZrO2 (अस्थिर), ZrO2-5-15wt% CaO)

4. मेटल बोराइड स्पटरिंग लक्ष्य:

Cr2B, CrB, CrB2, Cr5B3, FeB, HfB2, LaB6, Mo2B, Mo2B5, NbB, NbB2, TaB, TaB2, TiB2, W2B, WB, VB, VB2, ZrB2

<पी शैली = "पाठ-संरेखण: औचित्य; मार्जिन-बॉटम: 1.3em;">5. मेटल कार्बाइड स्पटरिंग लक्ष्य:

B4C, Cr3C2, HfC, Mo2C, NbC, SiC, TaC, TiC, WC, W2C, VC, ZrC

6. फ्लोराइड स्पटरिंग लक्ष्य

AlF3, BaF3, CdF2, CaF2, CeF3, DyF3, ErF3, HfF4, KF, LaF3, PbF2, LiF, PrF3, MgF2, NdF3, ReF3, smF3, NaF, क्रायोलाइट, Na3AlF6, SrF2 , ThF4, YF3, YbF3

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